光罩中的明暗场有什么区别？
从设计到制造的图形转移一般需要经过三步：1，IC设计者设计版图 2，将版图文件GDSII转化为掩膜版 3，用掩膜版将图形转移到光刻胶上。那么光罩又分为明暗场，它们有什么区别？
光罩
掩膜版：半导体和平板显示领域齐发力
掩膜版又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版，是微电子制造领域中光刻工艺中所使用的图形母版。掩膜版的作用是将设计者的电路图形通过曝光的方式转移到下游行业的基板或晶圆上，从而实现批量化生产，是承载图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体。作为光刻复制图形的基准和蓝本，掩膜版
前道量检测设备一般有哪些功能和种类
随着半导体技术朝着更小尺寸、更高集成度不断迈进，对前道量检测设备的精度、速度和功能多样性提出了前所未有的严苛要求。准确且全面地了解这些设备的功能分类，对于半导体制造企业优化生产工艺、提升产品良率、降低生产成本以及推动行业技术创新，具有不可估量的价值。接下来，将
DNF手游：准备强杀安徒恩的大腿C注意了，体验服又发现问题，涉及技能延迟伤害，否则炸团炸一天
兄弟们，关于安徒恩团本能够2拖10人的攻略已经出了，理论上只要大腿C的伤害足够，另外的队友都是可以站甲板看着氪金大佬输出的。
台积电开拓新业务
台积电正在将其位于新竹科学园区的已停产的旧8英寸晶圆厂3号晶圆厂重新利用，用于生产极紫外光防护薄膜（extreme ultraviolet pellicles），并将该生产流程移至内部。